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CVD二硫化鎢薄膜：WS2
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化學氣相沉積法， Chemical Vapor Deposition （CVD） 產品簡介： WS2薄膜分為多種： 1） 單層離散分布的三角狀單晶晶粒，三角邊長一般是幾十至一百微米。 2） 由三角晶粒繼續長大連在一起的單層連續薄膜。 3） 多層WS2 連續薄膜。 4） 基底：WS2可選基底較多，其中藍寶石基底為直接沉積產品。其他基底例如：SiO2/Si, 硅片，PET，PI，ITO，FTO，玻璃，金屬基底等是通過在藍寶石上生長后轉移至客戶所需基底。 應用領域： 光電器件，微電子器件，生物傳感，化學傳感等領域。 包裝及規格 10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圓片，4英寸圓片 或客戶指定的定制尺寸。 凈化抽真空包裝， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。 典型客戶包括： MIT、加州理工、斯坦福大學； 牛津大學、曼徹斯特大學； 首爾大學、韓國科學技術院（KAIST）、成均館大學； 東京工業大學、村田制作所 清華大學、北京大學、中科院半導體所 等世界一流研究機構。 |
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