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機械剝離二氧化硅基底二硒化鉬
英文名：Mechanical exfoliation MoSe2 on SiO2
Cas號：
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| 貨號 | 規格 | 貨期 | 庫存 | 價格 | 促銷價 | 訂購 |
| 1308128136-1盒 | 0 | ￥7700 |
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| Cas號 | |
| M D L | |
| 分子式 | |
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| 產品參數 | 形態：薄膜
參數 基底：二氧化硅 基底尺寸：10 mmx10 mm MoSe2 面積：>10 μm2 應用 該類材料具有缺陷少，優異的光學性質，可以研究層數和熒光效應，此外，由于保持了原有晶格結構，所以該類材料是制備器件的理想材料。 |
| 性狀 | |
| 貯存 |
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